Inside an ASML TWINSCAN machine | ASML | 37 comments
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Inside an ASML TWINSCAN machine | ASML | 37 comments
37 viewsSep 18, 2023
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【ASML 週報｜那些推動晶片製造的微影革命🚀】 半導體技術的每一次前進，都來自整個產業長期累積的突破。這些改變不一定是瞬間爆發，更多來自工程師們不斷嘗試、反覆實驗後的成果。今天就讓我們一起來回顧 3 項影響深遠的微影技術演進，也看看 ASML 如何與產業夥伴一起推動晶片製程向前走👇 🔹 TWINSCAN 雙平台架構 過去的微影機台一次只能處理一片晶圓，形成效率瓶頸。隨著雙晶圓平台架構的出現，我們得以同時進行量測與曝光，讓晶圓良率大幅提升，產能也跟著躍進！ 🔹 浸潤式微影技術（Immersion Lithography） 當摩爾定律逐漸逼近極限，ASML 讓「水之道」成為關鍵解方再次突破限制！透過在鏡頭與晶圓之間加入一層水，在不更換光源波長的前提，打破光學極限，讓晶片尺寸持續縮小，實現 32 nm 的製程。 🔹 極紫外光（EUV）微影技術 歷經數十年研發，ASML 的 High NA EUV 機台以 13.5 奈米波長的極紫外光，精準刻畫出微米級電晶體結構，並且大幅降低晶片量產的成本，成為現今 AI 晶片製程中不可或缺的關鍵技術。 從雙平台、浸潤式到 EUV，ASML 很榮幸
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【ASML 週報｜那些推動晶片製造的微影革命🚀】 半導體技術的每一次前進，都來自整個產業長期累積的突破。這些改變不一定是瞬間爆發，更多來自工程師們不斷嘗試、反覆實驗後的成果。今天就讓我們一起來回顧 3 項影響深遠的微影技術演進，也看看 ASML 如何與產業夥伴一起推動晶片製程向前走👇 🔹 TWINSCAN 雙平台架構 過去的微影機台一次只能處理一片晶圓，形成效率瓶頸。隨著雙晶圓平台架構的出現，我們得以同時進行量測與曝光，讓晶圓良率大幅提升，產能也跟著躍進！ 🔹 浸潤式微影技術（Immersion Lithography） 當摩爾定律逐漸逼近極限，ASML 讓「水之道」成為關鍵解方再次突破限制！透過在鏡頭與晶圓之間加入一層水，在不更換光源波長的前提，打破光學極限，讓晶片尺寸持續縮小，實現 32 nm 的製程。 🔹 極紫外光（EUV）微影技術 歷經數十年研發，ASML 的 High NA EUV 機台以 13.5 奈米波長的極紫外光，精準刻畫出微米級電晶體結構，並且大幅降低晶片量產的成本，成為現今 AI 晶片製程中不可或缺的關鍵技術。 從雙平台、浸潤式到 EUV，ASML 很榮幸
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【☄️ASML第一代多光束檢測設備順利出貨抵達客戶端🎉】​ ​ 隨著半導體製程技術不斷微縮，製程中的缺陷忍受度也越來越小，而為了能更符合客戶端的產能需求，ASML針對5奈米以上先進製程節點研發第一代HMI多光束檢測設備（Multibeam Inspection System），並在5月底完成設備的整合測試。型號HMI eScan 1000透過9條電子束檢測掃描，可檢測較多數量的晶圓，作業速度比原先的電子束檢測設備提高多達600%！​ ​ #HowDoWeChallenge​ 多光束檢測設備包括電子光學系統，能夠發射及控制多個檢測電子束，然後收集並處理反射後的電子束，並將光束間的互相干擾限制在2%以下，提供一致的成像品質。它還有高速平台以增加整體檢測速度，以及高速運算系統能夠即時處理多個光束檢測後的數據。​ ​ 透過以上的功能設計，HMI eScan 1000適用於物理缺陷和電壓對比檢測，讓客戶不管在研發規劃製程階段或量產監測階段，都能針對大範圍的缺陷做檢測。​ ​ 目前第一台多光束檢測設備HMI eScan 1000已順利抵達客戶端，我們也計畫在未來增加檢測系統中的光束數量以及光束解
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【☄️ASML第一代多光束檢測設備順利出貨抵達客戶端🎉】​ ​ 隨著半導體製程技術不斷微縮，製程中的缺陷忍受度也越來越小，而為了能更符合客戶端的產能需求，ASML針對5奈米以上先進製程節點研發第一代HMI多光束檢測設備（Multibeam Inspection System），並在5月底完成設備的整合測試。型號HMI eScan 1000透過9條電子束檢測掃描，可檢測較多數量的晶圓，作業速度比原先的電子束檢測設備提高多達600%！​ ​ #HowDoWeChallenge​ 多光束檢測設備包括電子光學系統，能夠發射及控制多個檢測電子束，然後收集並處理反射後的電子束，並將光束間的互相干擾限制在2%以下，提供一致的成像品質。它還有高速平台以增加整體檢測速度，以及高速運算系統能夠即時處理多個光束檢測後的數據。​ ​ 透過以上的功能設計，HMI eScan 1000適用於物理缺陷和電壓對比檢測，讓客戶不管在研發規劃製程階段或量產監測階段，都能針對大範圍的缺陷做檢測。​ ​ 目前第一台多光束檢測設備HMI eScan 1000已順利抵達客戶端，我們也計畫在未來增加檢測系統中的光束數量以及光束解
23.1K viewsJun 17, 2020
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How ASML's Lithography Machines Shape the AI Chip Industry | ASML
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917K views4 months ago
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【ASML 週報 | DUV 微影系統持續創新中...🚀】 在半導體的世界裡，創新不一定來自最新問世的技術，有時候突破反而藏在那些經過時間淬鍊的系統裡✨ 我們的 DUV 深紫外光微影系統，就像默默耕耘、不斷精進的技術職人，在每一次更新中挑戰極限、刷新表現！ ASML 積極發展極紫外光（EUV）微影系統的同時，也持續投入深紫外光（DUV）技術的進化。別忘了，成熟製程依然是驅動晶片製造、撐起市場需求，甚至改變你我生活的關鍵力量！ #DUV 機台在成熟製程中持續創新 ✨ 浸潤式微影（Immersion systems）：我們的 TWINSCAN NXT:2150i 配備 193 nm ArF 光源，還擁有 1.35 高數值孔徑（NA）。不只穩定精準，現在每小時還能處理多達 310 片晶圓，比上一代 NXT:2100 更快、更靈巧，對準和成像表現也全面升級，幫助客戶降低製程複雜度、提高效率 💡 🌬️ 乾式微影（Dry systems）：不是每一層晶片都需要超高規格的浸潤技術，有時候「穩定發揮」才是關鍵！像是 XT:400M，就是在前代 XT:400L 基礎上再升級，不但支援 200mm
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【ASML 週報 | DUV 微影系統持續創新中...🚀】 在半導體的世界裡，創新不一定來自最新問世的技術，有時候突破反而藏在那些經過時間淬鍊的系統裡✨ 我們的 DUV 深紫外光微影系統，就像默默耕耘、不斷精進的技術職人，在每一次更新中挑戰極限、刷新表現！ ASML 積極發展極紫外光（EUV）微影系統的同時，也持續投入深紫外光（DUV）技術的進化。別忘了，成熟製程依然是驅動晶片製造、撐起市場需求，甚至改變你我生活的關鍵力量！ #DUV 機台在成熟製程中持續創新 ✨ 浸潤式微影（Immersion systems）：我們的 TWINSCAN NXT:2150i 配備 193 nm ArF 光源，還擁有 1.35 高數值孔徑（NA）。不只穩定精準，現在每小時還能處理多達 310 片晶圓，比上一代 NXT:2100 更快、更靈巧，對準和成像表現也全面升級，幫助客戶降低製程複雜度、提高效率 💡 🌬️ 乾式微影（Dry systems）：不是每一層晶片都需要超高規格的浸潤技術，有時候「穩定發揮」才是關鍵！像是 XT:400M，就是在前代 XT:400L 基礎上再升級，不但支援 200mm
16K views10 months ago
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📣 Milestone moment for Intel... Europe's first high volume EUV scanner has arrived! This system, made by Dutch manufacturer ASML, is arguably the most complicated piece of machinery humans have ever built and it heralds an important moment for our new €17 billion fab development in Ireland. https://intel.ly/37msdgP | Intel
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📣 Milestone moment for Intel... Europe's first high volume EUV scanner has arrived! This system, made by Dutch manufacturer ASML, is arguably the most complicated piece of machinery humans have ever built and it heralds an important moment for our new €17 billion fab development in Ireland. https://intel.ly/37msdgP | Intel
11.3K viewsApr 7, 2022
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【ASML EUV微影設備｜雙晶圓平台處理技術⚙️】 ASML TWINSCAN曝光機中的晶圓平台（Wafer Stage）是微影設備中關鍵的定位模組（Positioning Module），在系統設計上整合機械電子學、光學設計及量測學（包含量測、數據處理及控制）。雙晶圓平台能在同一時間移動兩片矽晶圓：其中右邊的晶圓曝光於EUV極紫外光下，將電路設計圖影像（Pattern）刻在晶圓上；左邊的晶圓同時由機台的量測儀器優化其準確度（Alignment）。兩個平台交替執行微影和量測功能，並以電磁的方式移動，在無摩擦力的作用下能加速至7G❗️ 這就是ASML的微影系統如何在晶片量產時得以兼顧準確性及生產速度的關鍵。⚡️ #ASML #EUV #WaferStage | ASML
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【ASML EUV微影設備｜雙晶圓平台處理技術⚙️】 ASML TWINSCAN曝光機中的晶圓平台（Wafer Stage）是微影設備中關鍵的定位模組（Positioning Module），在系統設計上整合機械電子學、光學設計及量測學（包含量測、數據處理及控制）。雙晶圓平台能在同一時間移動兩片矽晶圓：其中右邊的晶圓曝光於EUV極紫外光下，將電路設計圖影像（Pattern）刻在晶圓上；左邊的晶圓同時由機台的量測儀器優化其準確度（Alignment）。兩個平台交替執行微影和量測功能，並以電磁的方式移動，在無摩擦力的作用下能加速至7G❗️ 這就是ASML的微影系統如何在晶片量產時得以兼顧準確性及生產速度的關鍵。⚡️ #ASML #EUV #WaferStage | ASML
74.4K viewsJun 13, 2019
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0:09
【ASML創新小學堂｜微影設備的感測器與致動器🙌】 ​ 你知道嗎？在微影設備中，有數以千計、非常小又精細的感測器和致動器，它們幾乎負責一切的測量，甚至能測出光在零件中穿梭的速度！而先進的演算法可以幫助我們解讀來自這些感測器的數據，以進行適當調整、優化機台的運作。今天我們的Senior software architect──Lewis Binns將為各位解釋微影設備的感測器與致動器👏 ​ 「如果沒有它們，今天所有的智能產品將不復存在。」Lewis以曝光機(scanner)來進一步說明：曝光儀內部非常繁忙，像是每小時測量與曝光數百個晶圓、零件以高達16g的加速度來回移動，零件被反覆加熱和冷卻，各式各樣的感測器用來連續測量曝光機零件、晶圓和光罩的位置及溫度等。 ⬇ 再來會使用我們開發的量測系統處理這些感測器的測量結果，以確定致動器的最佳設置。 ⬇ 曝光機中有數千個規模和性能不同的致動器，一端是用於移動晶圓的機械手臂與平台；另一端可能會在一個透鏡上安裝數百個壓電致動器，用於像是改變其形狀並優化所產生的投影圖案。 ⬇ 再來就需要量測軟體工程師的協助了，他們對於系統具備詳細的瞭解，並致力於融
76.7K viewsNov 8, 2022
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1:38
ASML Silicon Valley is advancing microchip technology through e-beam inspection, precision metrology, and machine learning. From detecting nanometer-scale defects to enabling smaller, more powerful chips, this work is shaping the future of semiconductor manufacturing. | ASML
938 views11 months ago
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1:23
ASML engineers and technicians work in a high-tech environment where cleanroom processes, module builds, and hands-on training come together to produce the world’s most advanced lithography systems used in semiconductor production. | ASML
1.8K views9 months ago
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0:23
[반도체 이야기] immersion technique 오늘은 현업에서 가장 많이 사용되고 있고, 현재 여러분들이 사용하는 반도체를 생산하는 기술 중 하나인 Immersion 에 대해서 다뤄보려고 합니다. Immersion 은 액침 기술이라고도 하며, 공기 중에서 노광을 진행할 시에 공기가 가지고 있는 NA의 값(0.95) 과 물을 사용하여 NA의 값을 조정하는 역할을 합니다. 궁극적으로 물의 굴절율을 이용하여 레이저를 한 곳에 모으는 역할을 하는데요. 웨이퍼 사이의 공간을 공기가 아닌, 물로 채우면 장비가 물의 특성을 가지고 노광을하게 되는 거죠. 그러면 왜 기름이나 다른 액체가 아닌, 물일까요? 매질로 사용되는 액체는 공정에 영향을 주어서는 안됩니다. 때문에 안정된 수온, 일정한 흐름 제어, 정화, 입자 등 고려해야 하는 조건들이 많은데요. 이를 충족시키는 액체, 초순수(물)을 활용한 immersion 기술은 약 1.4배 확대된 해상도를 제공하고 있습니다. 물을 사용한다는 것 뿐만
4.9K viewsFeb 8, 2018
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ASML PAS 5500/300C DUV Wafer Stepper Training Video
Oct 15, 2020
cornell.edu
Ultrasonic Immersion Testing Systems
Jan 1, 2009
scanmaster-irt.com
1:28
Learn how ASML engineers deliver fast, accurate inspection through advanced e-beam technology. From resolving sub-nanometer defects to ensuring yield targets are met, electron optics plays a mission-critical role in scaling high-volume semiconductor manufacturing. | ASML
1.2K views10 months ago
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Standard Immersion Systems - Ndt Instruments
Mar 3, 2020
ndt-instruments.com
12:52
How ASML Built the World’s Most Advanced EUV Light Source?
11 months ago
MSNAmazing Experts
3:35
ASML - Powering the next phase of semiconductor manufacturing
111.1K viewsNov 5, 2008
YouTubejeannotdriedonkx
4:17
Virtual scanning for smarter chips
18.5K viewsFeb 11, 2009
YouTubejeannotdriedonkx
A Deep Dive into Immersion Lithography Technology
Oct 26, 2022
asianometry.com
7:14
PAS 5500 – The Inside Story (1993) | ASML
66.5K viewsSep 1, 2016
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19:18
Intel's Newest $350 Million Machine
206.5K viewsApr 18, 2024
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14:52
How ASML Builds a $150 Million EUV Machine
458.1K viewsMay 23, 2021
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10:30
INTEL installs ASML's First High NA EUV Tool In Oregon Factory To become World Chip Leader
2.9K viewsApr 27, 2024
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1:01
While navigating the nano world, our electron optics team can accurately examine and measure the chips produced through our SEM scanning machines. Our machines enable our customers to build more powerful chips that go into technology all over the world. | ASML
548 viewsMar 12, 2024
FacebookASML
25:29
China’s Particle Beam Lithography Breakthrough Just Made ASML and TSMC Obsolete
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10:03
How ASML's EUV Technology is Revolutionizing Chip Production
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How ASML Makes Chips Faster With Its New $400 Million High NA Machine
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ASML 交付全球最先进光刻机：英特尔 2nm 工艺突围
Feb 17, 2025
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Why The World Relies On ASML For Machines That Print Chips
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How it's made Microchips ASML
51.8K viewsJan 23, 2014
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